دانلود کتاب Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond
| عنوان فارسی | بررسی در مورد Epitaxy انتخابی SIGE برای مهندسی منبع و تخلیه در گره فناوری CMOS 22 نانومتر و فراتر از آن |
|---|---|
| عنوان اصلی | Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond |
| ویرایش | [1st ed. 2019] |
| ناشر | Springer Singapore |
| نویسنده | Guilei Wang |
| ISBN | 9789811500, 9789811500 |
| سال نشر | 2019 |
| زبان | English |
| تعداد صفحات | XVI, 115 [127] |
| فرمت کتاب | pdf - قابل تبدیل به سایر فرمت ها |
| حجم فایل | 6 مگابایت |
* نکته : همۀ کتاب های موجود در وبسایت زبان اصلی می باشد
توضیحات
فهرست مطالب
اطلاعات قبل از خربد
نحوه دریافت کتاب
این کتاب نسخه زبان اصلی است و ترجمه فارسی نیست.بعد از تکمیل فرایند خرید می توانید کتاب را دانلود نمایید. درصورت نیاز به تغییر فرمت کتاب به پشتیبان اطلاع دهید.کتاب های تصادفی